保护膜生产技术及使用方法

  　　为改变光学零件表面光学特性而镀在光学零件表面上的一层或多层膜就是保护膜。
　　保护膜的特点是：表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的;可以是透明介质，也可以是吸收介质;可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。这是因为制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。
　　保护膜按应用分为反射膜、增透膜、滤光膜、光学保护膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4种。光学反射膜用以增加镜面反射率，常用来制造反光、折光和共振腔器件。光学增透膜沉积在光学元件表面，用以减少表面反射，增加光学系统透射，又称减反射膜。光学滤光膜用来进行光谱或其他光性分割，其种类多，结构复杂。光学保护膜沉积在金属或其他软性易侵蚀材料或薄膜表面，用以增加其强度或稳定性，改进光学性质。最常见的是金属镜面的保护膜。
　　◆ 保护膜的应用无处不在，从眼镜镀膜到手机，电脑，电视的液晶显示再到LED照明等等，它充斥著我们生活的方方面面，并使我们的生活更加丰富多彩。
　　◆ 保护膜可分为几何光学和物理光学这两种形式的，几何光学其实主要是通过光学器件表面形成的几何状的介质膜层，以使改变光路经来实现光束的调整或再分配作用;物理光学是将自然界中特有的光学材料元素通过纳米处理至所需的光学器件表面形成的介质膜层，透过介质膜层的光学材料元素的特性增强於改变光偏振，透射，反射等功能。
　　◆ 通常保护膜的制备条件要求高而精，制备保护膜分干式制备法和湿式制备法，干式制备法( 含真空镀膜：蒸发镀，磁控溅镀，离子镀等)一般用於物理保护膜的制备，湿式制备法(含涂布法， 流延法，热塑法等)一般用於几何保护膜的制备。